半导体工业用功能性化学品
SEMICOSIL®电子级硅烷因纯度高，金属污染性极低，已成为半导体工业不可或缺的基本材料。作为全球最大的硅烷生产商之一，瓦克在该领域拥有创新的产品组合，包括微电子零部件生产用助剂、工艺优化用原材料，以及在化学气相沉积室中可用来沉积绝缘层的前体等。
SEMICOSIL®硅酸四乙酯（TEOS）和SEMICOSIL®二甲基二甲氧基硅烷可在半导体组件中发挥绝缘层的作用。
优势：
- 纯度高
- 金属含量极低
- 氯化物含量极低
- 甲醇含量极低
- 介电常数极低的特种产品可用于新一代芯片
应用领域：
- 在化学气相沉积工艺中用作生成绝缘层的前体
- 在旋涂工艺中用作涂层组分
SEMICOSIL®硅氮烷可在平版印刷术中作为助剂用于微电子应用，以及作为原材料用来优化工艺。
优势：
- 纯度高
- 金属含量极低
- 氯化物含量极低
- 蒸发残留物极少
应用领域：
- 平版印刷工艺用附着促进剂
- 光刻胶聚合物改性用原材料
- 绝缘层表面结构生成用原材料
- 刻蚀掩膜生产
HDK® I13气相二氧化硅可作为磨砂剂用于化学机械抛光（CMP）浆料。
优势：
- 金属含量极低
- BET比表面积差异极小
- 粗粒比例极低，可有效避免划痕
应用领域：
- 化学机械抛光（CMP）浆料的组分
SEMICOSIL® HCl 5.5是一种半导体加工领域的高纯氯化氢，可满足最为严格的质量要求。
优势：
- 高纯
- 就气体与金属杂质微量而言，品质稳定
应用领域：
- 半导体制程中的清洁和蚀刻工艺
- 在外延反应室中对涂层进行蚀刻，以避免微粒释放