电介质 (半导体元件用) - Wacker Chemie AG


电介质

(半导体元件用)

在芯片制造中,SEMICOSIL®-正硅酸乙酯(TEOS)是重要的原料,非常适用于通过化学气相沉积法(CVD)来制备介电层。 在开发新型SEMICOSIL® 硅烷时,瓦克采用了更为严格的技术规范,以获得更低的介电常数,满足最新一代芯片的需要。

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SEMICOSIL® 2M2M 化学气相沉积(CVD)前体硅烷电子级> 99 %
SEMICOSIL® M3E 化学气相沉积(CVD)前体硅烷电子级> 99 %