In der Chip-Herstellung sind die Tetraethoxyorthosilikate der Produktreihe SEMICOSIL^®-TEOS wichtige Einsatzstoffe und werden bevorzugt bei der Erzeugung isolierender Schichten über CVD-Prozesse verwendet. Mit der Neuentwicklung weiterer SEMICOSIL^®-Silane erfüllt WACKER das gestiegene Anforderungsprofil nach tieferen Dielektrizitätskonstanten der neuen Chip-Generation.