In den lithographischen Prozessen zur Herstellung von Bauteilen für die Mikroelektronik leisten SEMICOSIL®-Silane einen wichtigen Beitrag als Rohstoffe bei der Modifizierung von Photoresistpolymeren sowie in der Erzeugung von Strukturen auf isolierenden Schichten und zur Herstellung von Etch-Stop-Schichten. Wegen ihrer Leistungsfähigkeit werden WACKER-Silane in der Lithographie auch als vielseitige Prozesshilfsmittel eingesetzt.
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